Concours de la meilleure photographie d’un lieu de mémoire de la Résistance et de la déportation


Le concours de photographie d’un lieu de mémoire s’adresse aux collégiens et lycéens. Ce concours leur donne l’opportunité de découvrir les lieux de mémoire sous un autre angle pour en ramener des clichés inattendus. Il est organisé par la Fondation de la Résistance, la Fondation pour la mémoire de la déportation et la Fondation Charles de Gaulle.

Il permet aux élèves d’exprimer leur sensibilité aux aspects artistiques et /ou architecturaux des lieux de mémoire de ;

- la Résistance intérieure et extérieure,
- l’internement
- la Déportation

Les lieux de mémoire peuvent être situés en France ou à l’étranger .

Participer au concours

Le nombre de photographies par candidat est limité à un tirage papier. Le format doit être compris entre 10X15 cm et 24X30 cm.

Au dos de chaque photographie, le candidat doit indiquer :
- son nom, son prénom, et ses coordonnées personnelles
- sa classe dans l’enseignement secondaire
- l’établissement scolaire où il fait ses études
- la légende de la photographie qu’il propose, précisant la localisation et l’explication du lieu de Mémoire

Chaque photographie soumise au jury est accompagnée d’une présentation de la réalisation (commentaires personnels, choix de la technique utilisée, conditions de réalisation, etc.) et d’un engagement de ne pas la publier ou la distribuer avant les résultats du concours. Tout candidat mineur joint à son dossier une attestation parentale l’autorisant à participer à ce concours.

Les candidats doivent faire parvenir leurs photographies avant le 14 juillet de l’année.

Consulter le règlement du concours

Mis à jour : vendredi 1er décembre 2017